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近日，美國弗吉尼亞理工大學(xué)電力電子技術(shù)中心（CPES）和蘇州晶湛半導(dǎo)體團隊合作攻關(guān)，通過采用蘇州晶湛新型多溝道AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)外延片，以及運用pGaN降低表面場技術(shù)（p-GaN reduced surface field (RESURF)制備的肖特基勢壘二極管(SBD)，成功實現(xiàn)了超過10kV的超高擊穿電壓。這是迄今為止氮化鎵功率器件報道實現(xiàn)的最高擊穿電壓值。相關(guān)研究成果已于2021年6月發(fā)表于IEEE Electron Device Letters期刊。

圖1：多溝道AlGaN/GaN SBD器件結(jié)構(gòu)圖

（引用自IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, VOL. 42, NO. 6, JUNE 2021）

實現(xiàn)這一新型器件所采用的氮化鎵外延材料結(jié)構(gòu)包括20nm p+GaN/350nm p-GaN 帽層以及23nm Al0.25Ga0.75N/100nm GaN本征層的5個溝道。該外延結(jié)構(gòu)由蘇州晶湛團隊通過MOCVD方法在4吋藍(lán)寶石襯底上單次連續(xù)外延實現(xiàn)，無需二次外延。基于此外延結(jié)構(gòu)開發(fā)的氮化鎵器件結(jié)構(gòu)如圖1所示，在刻蝕工藝中，通過僅保留2微米的p-GaN場板結(jié)構(gòu)（或稱為降低表面場（RESURF）結(jié)構(gòu)），能夠顯著降低峰值電場。在此基礎(chǔ)上制備的多溝道氮化鎵肖特基勢壘二極管（SBD），在實現(xiàn)10kV的超高擊穿電壓的同時，巴利加優(yōu)值（Baliga’s figure of merit, FOM）高達(dá)2.8GW?cm^2 , 而39mΩ?cm^2 的低導(dǎo)通電阻率，也遠(yuǎn)低于同樣10kV耐壓的 SiC 結(jié)型肖特基勢壘二極管。多溝道氮化鎵器件由于采用廉價的藍(lán)寶石襯底以及水平器件結(jié)構(gòu)，其制備成本也遠(yuǎn)低于采用昂貴SiC襯底制備的SiC二極管。

創(chuàng)新性的多溝道設(shè)計可以突破單溝道氮化鎵器件的理論極限，進一步降低開態(tài)電阻和系統(tǒng)損耗，并能實現(xiàn)超高擊穿電壓，大大拓展GaN器件在高壓電力電子應(yīng)用中的前景。在“碳達(dá)峰+碳中和”的歷史性能源變革背景下，氮化鎵電力電子器件在電動汽車、充電樁、可再生能源發(fā)電、工業(yè)電機驅(qū)動器、電網(wǎng)和軌道交通等高壓應(yīng)用領(lǐng)域具有廣闊的潛力。蘇州晶湛半導(dǎo)體有限公司已于近日發(fā)布了面向中高壓電力電子和射頻應(yīng)用的硅基、碳化硅基以及藍(lán)寶石基的新型多溝道AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)外延片全系列產(chǎn)品，歡迎海內(nèi)外新老客戶與我們洽商合作，共同推動氮化鎵電力電子技術(shù)和應(yīng)用的新發(fā)展！

關(guān)于蘇州晶湛半導(dǎo)體有限公司

蘇州晶湛半導(dǎo)體有限公司成立于2012年，坐落于江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)納米城，擁有一個國際先進的氮化鎵外延材料研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化基地，致力于為微波射頻、電力電子器件和LED領(lǐng)域提供高品質(zhì)氮化鎵外延材料。2014年底，晶湛半導(dǎo)體在全球首家發(fā)布其商品化8英寸硅基氮化鎵外延片產(chǎn)品，并在2018年10月通過ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證。蘇州晶湛半導(dǎo)體有限公司將一直秉承著“成為服務(wù)全球的氮化鎵外延材料制造商”的愿景，為客戶創(chuàng)造價值。

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